第380章 光刻机专项完成 (第1/3页)

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周博士，部长转过头，看向身边的周振，虽然林院士刚才给我讲了硬件上的力大砖飞，但我这心里还是不踏实。咱们用193纳米波长的光源，硬要去完成等效7纳米的性能，这真的走得通吗？

他指了指大屏幕上那张密密麻麻的芯片版图。

部长，如果是单次曝光，当然不可能。光的衍射极限就在那里，这是物理铁律。周振的声音沉稳，带着一种技术人员特有的严谨，所以，我们必须采用多重曝光技术。

他在控制台上调出一张示意图。

打个比方，如果我们手里只有一支粗画笔，却要画出比笔锋还要细的线条，怎么办？

部长微微皱眉：怎么办？

我们可以画两次，甚至四次。周振的手指在空中比划着，利用线条之间的空隙，通过多次错位叠加，把不需要的部分切掉，或者把需要的线条凑出来。我们要做的等效7纳米工艺，需要用到自对准四重图形化技术。

四次……部长喃喃自语。

是的，四次。周振深吸一口气，这就好比是在一粒米上雕刻清明上河图，还要分四次下刀，每一次下刀的位置误差不能超过0.5纳米。只要有一次歪了，整张晶圆就废了。

他转身指向身后那群正在疯狂敲击键盘的年轻工程师。

外面的那些大家伙，那座楼一样的光刻机，是我们的大炮。它口径大、射程远、底盘稳。但是，要想把炮弹精准地打进蚊子的翅膀里，光有大炮是不行的。

周振的眼中闪过一丝傲然：我们eda团队，还有这套计算光刻算法，就是这门大炮的瞄准镜。

在asml的路径里，他们依赖的是蔡司镜头的极致物理精度。而我们，依赖的是数学，是算法，是算力！

这时候，林星石开始进行最后的准备。

各单位报告情况。林星石的声音不大，通过麦克风清晰地传遍了每一个角落。

光源系统就绪！液冷循环温差控制在0.01度以内！

物镜系统稳定！地质微震监测数据归零！

双工件台自检完成！同步误差补偿模型已加载！

星火云算力通道全开！分配算力：800pflops！

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